一、核心用途（工业主流）

1. 显示光刻胶（最主要应用）

• LCD/OLED 彩色滤光片（CF）：红 / 绿 / 蓝（RGB）光刻胶主引发剂，高感光度、低残留、耐高温，支持 ** 高色深（OD>4.0）与高分辨率（≤5μm）** 图案化。
• 黑色矩阵（BM）：黑色光刻胶专用，强吸收、高遮光、表面电阻高（≥10¹⁶Ω/cm²），防止漏光与串色。
• TFT 阵列 / 绝缘层：用于薄胶（1–3μm）与精细线宽，热稳定性好（≥120℃），适配后段制程。

2. PCB 与半导体光刻

• PCB 阻焊 / 线路光刻：替代传统碘鎓盐，无卤素、低离子迁移、耐化学（酸 / 碱 / 焊锡），提升细线路良率。
• 半导体 / 载板：用于干膜光刻胶、感光阻焊、 bumping 胶，适配365/385/405nm LED，低 VOC、低挥发。

3. 高端 UV 固化油墨 / 涂料

• LED-UV 胶印 / 丝印油墨：快干、网点锐利、不堵版，适配高速印刷（≥80m/min），低黄变、耐候。
• 塑料 / 金属 / 玻璃 UV 漆：高硬度、高光泽、附着力强，用于手机 / 家电外壳、汽车内饰。
• 3D 打印光敏树脂：高固化深度、低氧阻聚、表面光洁，适配405nm LED，打印件尺寸稳定、黄变小。

4. 胶粘剂与光致产酸剂（PAG）

• UV 结构胶 / 厌氧胶：快速固化、高强度，用于光学元件、摄像头模组、电子组装。
• 化学增幅型光刻胶 PAG：光解产酸，触发树脂交联 / 脱保护，用于 ** 深紫外 / 极紫外（DUV/EUV）** 光刻体系。