2,3,4 - 三羟基二苯甲酮 1,2 - 二叠氮基萘醌 - 5 - 磺酸酯（简称 DNQ 光敏剂，商品名光引发剂 3215），核心用途是正性光刻胶的光敏剂，广泛用于半导体、显示面板与印刷制版，少量用于高分子改性与医药中间体。

一、核心用途：正性光刻胶光敏剂（最主要）

• 半导体芯片：用于硅片、晶圆的微米 / 亚微米级图形光刻（如逻辑 / 存储芯片、分立器件），分辨率高、抗蚀刻与耐热性好、去胶容易。
• 显示面板（FPD）：TFT‑LCD、OLED 阵列基板的光刻工艺，适配 g 线正性胶。
• 印刷电路板（PCB）：高精度线路板的光刻成像。
• 阳图 PS 版 / CTP 版：印刷制版用感光胶，曝光后溶解差异形成图文。

作用机理

• 曝光前：DNQ 抑制酚醛树脂溶解，胶层难溶于碱显影液。
• 曝光后：DNQ 光解生成茚羧酸，碱溶性大幅提升；未曝光区保留，显影后得到正性图案。

二、其他工业用途

• 高分子材料：光固化体系光引发剂、交联剂；用于涂料、油墨、胶粘剂的紫外固化，提升固化效率与耐候性。
• 医药中间体：用于靶向 药前体、药物缓释系统光敏组分，调控释放速率。
• 膜与涂层：光学膜、抗蚀膜、化学涂层的光敏添加剂。